Research, testing and scientific technical simulator (Италия - Тендер #48110381) | ||
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Страна: Италия (другие тендеры и закупки Италия) Организатор тендера: ISTITUTO DI FOTONICA E NANOTECNOLOGIE DEL CNR Номер конкурса: 48110381 Дата публикации: 15-11-2023 Источник тендера: Единая система закупок Европейского союза TED |
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sistema per la rimozione di materiali in plasma della tipologia RIE Reactive Ion Etching
Reference number: A01C1D6834GARA DESERTA PER MANCANZA DI OFFERTE
fornitura, l’installazione e la messa in funzione di un sistema di Plasma Etching per la rimozione in plasma di Ossidi, Ossi-nitruri e Nitruri di silicio, Poli-silicio, drogato e non drogato su lotti di produzione da 25 wafer di substrati da 150 mm, predisposti per trattare substrati da 200 mm. L‘apparecchiatura sarà collocata in modalità through the wall presso la cleanroom DETECTOR della Micro-nano Characterization and Fabrication Facility, Fondazione Bruno Kessler di Trento, in via Sommarive 18.Lo spazio disponibile massimo per l’apparecchiatura è di 1.35 m (larghezza), 2.5 m (profondità), 2.4 m (altezza). Il Concorrente dovrà indicare l’ingombro dell’apparecchiatura, incluse le aree di servizio (clearance) ottimizzando la disposizione all’interno della stessa. Saranno escluse le apparecchiature il cui ingombro eccede l’area disponibile.
CNR-IFN TRENTO laboratorio Cleanroom CR D presso la Fondazione Bruno Kessler, Via Sommarive 18, 38123 Povo – Trento
modalità di collocazione della strumentazione: throught the wall
GARA DESERTA - NESSUNA OFFERTA PRESENTATA
fornitura, l’installazione e la messa in funzione di un sistema di Plasma Etching per la rimozione in plasma di Ossidi, Ossi-nitruri e Nitruri di silicio, Poli-silicio, drogato e non drogato su lotti di produzione da 25 wafer di substrati da 150 mm, predisposti per trattare substrati da 200 mm. L‘apparecchiatura sarà collocata in modalità through the wall presso la cleanroom DETECTOR della Micro-nano Characterization and Fabrication Facility, Fondazione Bruno Kessler di Trento, in via Sommarive 18.Lo spazio disponibile massimo per l’apparecchiatura è di 1.35 m (larghezza), 2.5 m (profondità), 2.4 m (altezza). Il Concorrente dovrà indicare l’ingombro dell’apparecchiatura, incluse le aree di servizio (clearance) ottimizzando la disposizione all’interno della stessa. Saranno escluse le apparecchiature il cui ingombro eccede l’area disponibile.
sistema per la rimozione di materiali in plasma della tipologia RIE Reactive Ion Etching
LA GARA E" ANDATA DESERTA IN QUANTO NON SONO PERVENUTE OFFERTE