Clustertool for Ion Beam Etching of 300mm wafers (Германия - Тендер #70819709) | ||
| ||
| Для перевода текста тендера на нужный язык воспользуйтесь приложением: | ||
Страна: Германия (другие тендеры и закупки Германия) Организатор тендера: Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e. V. Номер конкурса: 70819709 Дата публикации: 20-02-2026 Источник тендера: Единая система закупок Европейского союза TED Осталось 32 дней |
||
Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e. V. (ID: ORG-0001)
Address: Am Wolfsmantel 33, Erlangen, 91058
Contacts:
Tel: +49 91317762230
Email: einkauf@iis.fraunhofer.de
Web: https://www.deutsche-evergabe.de
Company ID: 10342
Vergabekammer des Bundes (ID: ORG-0002)
Address: Kaiser-Friedrich-Str. 116, 53113, 53113
Contacts:
Tel: +49 22894990
Email: vk@bundeskartellamt.bund.de
Company ID: ec638eed-3e8c-4f43-af01-aaa66f8e27ef
Datenservice Öffentlicher Einkauf (in Verantwortung des Beschaffungsamts des BMI) (ID: ORG-0003)
Address: , Bonn, 53119
Contacts:
Tel: +49228996100
Email: noreply.esender_hub@bescha.bund.de
Company ID: 0204:994-DOEVD-83
Description: The tender item is an ion beam etching process tool to be used for 300mm wafer fabrication at the FRAUNHOFER IPMS. The systems will be used for the processing of CMOS wafers in a cleanroom class 1000 (approximately class 6 EN ISO 14644-1) production environment. Therefore, it is necessary to fulfill require-ments regarding metal contamination and particle generation compatible with industry standards.
Issue Date: 18.02.2026 02:00
CPV Codes: 42900000
Documentation: